半导体掺杂
用于硅片掺杂，砷化镓加工，存储器注氧等
离子束改性
用于提高金属硬度、抗腐蚀性、改善陶瓷性能等
材料制备
用于制作铌酸锂薄膜、钽酸锂薄膜、硅薄膜等
公司新闻
高效率实现24小时工作
双靶室两个注入靶室相互切换，无缝衔接
全计算机控制所有系统由计算机控制，实现全自动化
大尺寸实现6英寸靶材的注入
离子注入公共服务平台 工业型进口离子注入机 ,双靶室操作 ,全计算机控制 ,24小时工作.
0531-88806298 传真：0531-88809907 Email：cathy@nanoln.com
山东省离子注入公共服务平台是由国家信息通信国际创新园(CIIIC)、济南晶正电子科技有限公司和山东大学联合成立，专业提供离子注入服务的世界一流平台。拥有目前最先进的工业型离 ...
